Al2O3 thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.12.065
Конечная издательская версия

N. V. Gavrilov
A. S. Kamenetskikh
P. V. Trernikov
D. R. Emlin
A. V. Chukin
Yu S. Surkov

Язык оригинала	Английский
Страницы (с-по)	117-124
Число страниц	8
Журнал	Surface and Coatings Technology
Том	359
DOI	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.12.065
Состояние	Опубликовано - 15 февр. 2019

Предметные области WoS

Материаловедение, Покрытия и пленки
Физика, Прикладная

Предметные области ASJC Scopus

Chemistry(all)
Condensed Matter Physics
Surfaces and Interfaces
Surfaces, Coatings and Films
Materials Chemistry

ID: 8541582