Effect of composition and thermal treatment on the properties and microstructure of Co-SiO2 films › Обзор исследований

DOI

https://doi.org/10.1007/s11182-011-9677-1
Конечная издательская версия

Язык оригинала	Английский
Страницы (с-по)	733-738
Число страниц	6
Журнал	Russian Physics Journal
Том	54
Номер выпуска	7
DOI	https://doi.org/10.1007/s11182-011-9677-1
Состояние	Опубликовано - нояб. 2011

Предметные области ASJC Scopus

Physics and Astronomy(all)

Предметные области WoS

Физика, Многопрофильные области

ID: 30067989