Изобретение относится к области ионно-плазменного напыления многослойных пленок. Согласно способу получения пленок осуществляют ионно-плазменное напыление материала мишени на подложку в вакууме при приложении магнитного поля. При этом предварительно устанавливают зависимость характеристик материала напыляемого слоя от величины давления распыляющего газа. Напыление осуществляют при величине давления, а также величине и/или ориентации прикладываемого магнитного поля, необходимых для получения заданных характеристик материала напыляемого слоя. Причем по крайней мере два слоя напыляют из одной мишени при разных давлениях распыляющего газа. Устройство для получения пленок содержит экранированную катод-мишень и подложкодержатель, расположенный в горизонтальном магнитном поле с возможностью изменения ориентации поля. Экран выполнен регулируемым по высоте с по крайней мере двумя отверстиями для распыляемого материала. При этом каждое отверстие имеет регулируемую по высоте вставку, а по вертикали отверстия разделены дополнительной изолированной перегородкой. Технический результат - получение многослойных пленок с различными свойствами слоев и расширение технологических возможностей.