На основании результатов, полученных методом полевой ионной микроскопии, проведен анализ атомного строения граничной области металлических интерфейсов после интенсивных внешних воздействий. В результате изучения атомного строения планарных дефектов в металлических материалах после радиационного и других видов внешних воздействий методами полевой ионной микроскопии, атомного зонда полевого ионного микроскопа и томографического атомного зонда установлена различная ширина их граничной области. Показано, что ширина граничной области металлических интерфейсов изменяется в зависимости от типа интенсивного внешнего воздействия и составляет 0.8-1.5 nm. Приведены экспериментальные данные об элементном составе межфазных интерфейсов (Cu80Co20) в металлически сплавленных компаундах и легированных сплавах (Cu3Au (4 at.% Pt)).