Результаты исследований: Патент
Результаты исследований: Патент
}
TY - PAT
T1 - Устройство для производства анодной меди
T2 - патент на изобретение
AU - Лисиенко, Владимир Георгиевич
AU - Чесноков, Юрий Николаевич
AU - Холод, Сергей Иванович
AU - Лаптева, Анна Викторовна
AU - Рогачев, Владимир Юрьевич
AU - Воинов, О. Ю.
PY - 2021/3/18
Y1 - 2021/3/18
N2 - Изобретение относится к устройству для производства анодной меди. Устройство содержит ванну с расплавом черновой меди, трубу для продувки расплава воздухом, одним концом опущенную в ванну, отсекающий вентиль и снабжено ванной с эталонным расплавом катодной меди, двумя источниками ЭДС, двумя резисторами, парой электродов, погруженных в ванну с эталонным расплавом, парой электродов, погруженных в ванну с расплавом черновой меди, двумя термопарами, микровольтметром и микроконтроллером, при этом источники ЭДС включены встречно посредством объединения их выводов одной полярности и подключены к двум электродам, погруженным в ванны с разными расплавами, а два свободных выхода источников ЭДС другой полярности подключены через резисторы к двум другим электродам, погруженным в ванны с разными расплавами, термопары погружены по одной в каждую ванну и подключены к микроконтроллеру, вход микровольтметра подключен к электродам, связанным с резисторами, а выход микровольтметра подключен к микроконтроллеру, выход которого связан с вентилем для отсечки продувки воздухом. Обеспечивается автоматизированное точное определение момента времени прекращения продувки ванны с расплавом черновой меди. 1 ил
AB - Изобретение относится к устройству для производства анодной меди. Устройство содержит ванну с расплавом черновой меди, трубу для продувки расплава воздухом, одним концом опущенную в ванну, отсекающий вентиль и снабжено ванной с эталонным расплавом катодной меди, двумя источниками ЭДС, двумя резисторами, парой электродов, погруженных в ванну с эталонным расплавом, парой электродов, погруженных в ванну с расплавом черновой меди, двумя термопарами, микровольтметром и микроконтроллером, при этом источники ЭДС включены встречно посредством объединения их выводов одной полярности и подключены к двум электродам, погруженным в ванны с разными расплавами, а два свободных выхода источников ЭДС другой полярности подключены через резисторы к двум другим электродам, погруженным в ванны с разными расплавами, термопары погружены по одной в каждую ванну и подключены к микроконтроллеру, вход микровольтметра подключен к электродам, связанным с резисторами, а выход микровольтметра подключен к микроконтроллеру, выход которого связан с вентилем для отсечки продувки воздухом. Обеспечивается автоматизированное точное определение момента времени прекращения продувки ванны с расплавом черновой меди. 1 ил
UR - https://www.elibrary.ru/item.asp?id=45807074
M3 - Патент
M1 - 2745014
Y2 - 2019/12/19
PB - Федеральный институт промышленной собственности
ER -
ID: 23804332